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資料名：
巻： 70 号： 6 ページ： 3301-3313 発行年： 1991年09月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902038385184203
整理番号：91A0854460
電子サイクロトロン共鳴プラズマ中で成長させた二酸化けい素のカイネティクスと電気的特性に及ぼすdcバイアスの効果
Effects of dc bias on the kinetics and electrical properties of silicon dioxide grown in an electron cyclotron resonance plasma.
CARL D A
(Univ. California, California)
,
HESS D W
(Univ. California, California)
,
LIEBERMAN M A
(Univ. California, California)
,
NGUYEN T D
(Univ. California, California)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 70 号： 6 ページ： 3301-3313 発行年： 1991年09月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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