文献
J-GLOBAL ID:200902044250476263
整理番号:90A0721023
ポリイミド膜のCF4/O2プラズマエッチングと表面改質:時間に依存した表面ふっ素化とふっ素化模型
CF4/O2 plasma etching and surface modification of polyimide films: Time-dependent surface fluorination and fluorination model.
著者 (3件):
SCOTT P M
(IBM Corp., New York)
,
MATIENZO L J
(IBM Corp., New York)
,
BABU S V
(Clarkson Univ., New York)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
8
号:
3 Pt.2
ページ:
2382-2387
発行年:
1990年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)