文献
J-GLOBAL ID:200902044376448125
整理番号:89A0477168
蒸着中の低エネルギーイオン衝撃による膜修飾
Film modification by low energy ion bombardment during deposition.
著者 (2件):
ROSSNAGEL S M
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
CUOMO J J
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
171
号:
1
ページ:
143-156
発行年:
1989年04月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)