文献
J-GLOBAL ID:200902044683535302
整理番号:92A0168873
拡散促進方式のシリル化レジスト処理での気相と液相のシリル化の比較
Comparative study between gas- and liquid-phase silylation for the diffusion-enhanced silylated resist process.
著者 (3件):
BAIK K-H
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
VAN DEN HOVE L
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
ROLAND B
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
9
号:
6
ページ:
3399-3405
発行年:
1991年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)