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J-GLOBAL ID：200902048517803388 整理番号：89A0596319

シリコン基板上に蒸着したアルミニウム薄膜における残留応力のX線による決定

X-ray determination of the residual stresses in thin aluminum films deposited on silicon substrates.

著者 (2件)：

KORHONEN M A

(Helsinki Univ. Technology, Espoo, FIN)

PASZKIET C A

(Cornell Univ., New York)

資料名：

Scripta Metallurgica (Scripta Metallurgica)

巻： 23 号： 8 ページ： 1449-1453 発行年： 1989年08月
JST資料番号： B0915A ISSN： 0036-9748 CODEN： SCRMBU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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