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著者 (3件)：
資料名：
巻： 41 号： 4/6 ページ： 1268-1271 発行年： 1990年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902049244573941
整理番号：91A0023272
金属-Si3N4-Si薄膜系における固体反応および拡散過程 Cr,CoおよびNi金属間の比較
Solid state reactions and diffusion processes in metal-Si3N4-Si thin film systems-a comparison between Cr, Co and Ni metals.
EDELMAN F
(Technion-Israel Inst. Technology, Haifa, ISR)
,
GUTMANAS E Y
(Technion-Israel Inst. Technology, Haifa, ISR)
,
BRENER R
(Technion-Israel Inst. Technology, Haifa, ISR)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 41 号： 4/6 ページ： 1268-1271 発行年： 1990年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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