文献
J-GLOBAL ID:200902049379191593
整理番号:89A0296385
スパッタした粒子の斜め入射によるCo-Cr膜の構造および磁気特性の変化
Changes in structure and magnetic properties of Co-Cr films by oblique incident of sputtered particles.
著者 (2件):
HOSHI Y
(Tokyo Inst. Polytechnics, Atsugi-shi, JPN)
,
NAOE M
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
資料名:
IEEE Transactions on Magnetics
(IEEE Transactions on Magnetics)
巻:
24
号:
6
ページ:
3015-3017
発行年:
1988年11月
JST資料番号:
A0339B
ISSN:
0018-9464
CODEN:
IEMGAQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)