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文献
J-GLOBAL ID:200902053115126766   整理番号:91A0732023

イオンビームスパッタ蒸着によって堆積した強誘電体薄膜のプロセスと構造の関係

Processing-structure relations for ferroelectric thin films deposited by ion beam sputter deposition.
著者 (8件):
KINGON A
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
AMEEN M
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
AUCIELLO O
(Microelectronics Center of North Carolina, NC)
GIFFORD K
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
AL-SHAREEF H
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
GRAETTINGER T
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
ROU S-H
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
HREN P
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)

資料名:
Ferroelectrics  (Ferroelectrics)

巻: 116  号: 1/2  ページ: 35-49  発行年: 1991年04月 
JST資料番号: D0777A  ISSN: 0015-0193  CODEN: FEROA8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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