文献
J-GLOBAL ID:200902055609912422
整理番号:90A0415121
6H-SiC基板上への膜質を改善した3C-SiC膜の成長
Growth of improved quality 3C-SiC films on 6H-SiC substrates.
著者 (9件):
POWELL J A
(NASA Lewis Research Center, Ohio)
,
LARKIN D J
(NASA Lewis Research Center, Ohio)
,
MATUS L G
(NASA Lewis Research Center, Ohio)
,
CHOYKE W J
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
BRADSHAW J L
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
HENDERSON L
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
YOGANATHAN M
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
YANG J
(Case Western Reserve Univ., Ohio)
,
PIROUZ P
(Case Western Reserve Univ., Ohio)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
56
号:
14
ページ:
1353-1355
発行年:
1990年04月02日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)