文献
J-GLOBAL ID:200902058591592548
整理番号:87A0542677
プラズマ増大化学蒸着 直接プラズマ励起と遠隔プラズマ励起の差
Plasma enhanced chemical vapor deposition: Differences between direct and remote plasma excitation.
著者 (2件):
LUCOVSKY G
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
TSU D V
(North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
5
号:
4 Pt 4
ページ:
2231-2238
発行年:
1987年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)