文献
J-GLOBAL ID:200902063303069490
整理番号:92A0633994
Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography.
著者 (3件):
PRZYBILLA K J
(Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU)
,
ROESCHERT H
(Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU)
,
PAWLOWSKI G
(Hoechst AG, Frankfurt/M., DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1672
ページ:
500-512
発行年:
1992年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)