文献
J-GLOBAL ID:200902066915905709
整理番号:89A0211812
ArFエキシマレーザ化学蒸着で作製された炭素膜の再研究
Reinvestigation of the carbon films prepared by ArF excimer laser-induced chemical vapor deposition.
著者 (1件):
KITAHAMA K
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
53
号:
19
ページ:
1812-1814
発行年:
1988年11月07日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)