文献
J-GLOBAL ID:200902067982606631
整理番号:92A0555567
化学的蒸気浸透条件下でCH3SiCl3/H2から析出した炭化けい素の酸化速度論
Oxidation kinetics of SiC deposited from CH3SiCl3/H2 under CVI conditions.
著者 (3件):
FILIPUZZI L
(Lab. Composites Thermostructuraux, CNMS, Pessac, FRA)
,
NASLAIN R
(Lab. Composites Thermostructuraux, CNMS, Pessac, FRA)
,
JAUSSAUD C
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
27
号:
12
ページ:
3330-3334
発行年:
1992年06月15日
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)