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著者 (5件)：
資料名：
巻： 8 号： 6 ページ： 1481-1487 発行年： 1990年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902068235543554
整理番号：91A0232996
0.5μm以下のフォトリソグラフィー用の拡散促進型シリル化レジスト(DESIRE)処理での気相シリル化
Gas phase silylation in the diffusion enhanced silylated resist process for application to sub-0.5μm optical lithography.
BAIK K-H
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
VAN DEN HOVE L
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
GOETHALS A M
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
OP DE BEECK M
(Interuniversity Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
ROLAND B
(UCB Electronics, Haarsrode, BEL)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 8 号： 6 ページ： 1481-1487 発行年： 1990年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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