文献
J-GLOBAL ID:200902071211449337
整理番号:85A0371873
反応性マグネトロンスパッタリング法による単結晶TiN膜の成長とその性質
Growth and properties of single crystal TiN films deposited by reactive magnetron sputtering.
著者 (5件):
JOHANSSON B O
(Linkoeping Univ., Sweden)
,
SUNDGREN J-E
(Linkoeping Univ., Sweden)
,
GREENE J E
(Linkoeping Univ., Sweden)
,
ROCKETT A
(Univ. Illinois)
,
BARNETT S A
(Univ. Illinois)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
3
号:
2
ページ:
303-307
発行年:
1985年03月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)