文献
J-GLOBAL ID:200902072697966822
整理番号:85A0129080
低圧(1.0Torr以下)の高周波プラズマ中での炭化水素または塩化けい素の重合反応におけるラジカル-分子及びイオン-分子反応機構
Radical-molecule and ion-molecule mechanisms in the polymerization of hydrocarbons and chlorosilanes in r.f. plasmas at low pressures (below 1.0 Torr)
著者 (4件):
AVNI R
(Lewis Research Center, National Aeronautics and Space Administration, OH)
,
CARMI U
(Nuclear Research Centre Negev, Israel)
,
INSPEKTOR A
(Nuclear Research Centre Negev, Israel)
,
ROSENTHAL I
(Nuclear Research Centre Negev, Israel)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
118
号:
2
ページ:
231-241
発行年:
1984年08月10日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)