文献
J-GLOBAL ID:200902073461932788
整理番号:89A0464796
レーザ物理蒸着による窒化チタン膜の低温処理
Low-temperature processing of titanium nitride films by laser physical vapor deposition.
著者 (5件):
BIUNNO N
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
NARAYAN J
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
HOFMEISTER S K
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
SRIVATSA A R
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
SINGH R K
(North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
54
号:
16
ページ:
1519-1521
発行年:
1989年04月17日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)