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文献
J-GLOBAL ID:200902076580653756   整理番号:86A0162059

浅いトレンチ分離を用いた無ラッチアップCMOS構造

Latchup-free CMOS structure using shallow trench isolation.
著者 (7件):
NIITSU Y
(Toshiba Corp., Kawasaki)
TAGUCHI S
(Toshiba Corp., Kawasaki)
SHIBATA K
(Toshiba Corp., Kawasaki)
FUJI H
(Toshiba Corp., Kawasaki)
SHIMAMUNE Y
(Toshiba Corp., Kawasaki)
IWAI H
(Toshiba Corp., Kawasaki)
KANZAKI K
(Toshiba Corp., Kawasaki)

資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting  (Technical Digest. International Electron Devices Meeting)

巻: 1985  ページ: 509-512  発行年: 1985年 
JST資料番号: C0829B  ISSN: 0163-1918  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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