文献
J-GLOBAL ID:200902076655001105
整理番号:86A0485031
CF4およびCF4+O2混合気におけるβ-SiCのドライエッチング
Dry etching of β-SiC in CF4 and CF4 + O2 mixtures.
著者 (4件):
PALMOUR J W
(North Carolina State Univ.)
,
DAVIS R F
(North Carolina State Univ.)
,
WALLETT T M
(Lewis Research Center National Aeronautics and Space Administration, Ohio)
,
BHASIN K B
(Lewis Research Center National Aeronautics and Space Administration, Ohio)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
4
号:
3 Pt 1
ページ:
590-593
発行年:
1986年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)