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著者 (6件)：
資料名：
巻： 72 号： 8 ページ： 3718-3725 発行年： 1992年10月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902082503386079
整理番号：93A0028700
NF3プラズマで清浄化したSi表面のX線光電子分光分析および電気的接触の性質
X-ray photoemission analysis and electrical contact properties of NF3 plasma cleaned Si surfaces.
DELFINO M
(Varian Assoc., California)
,
CHUNG B-C
(Varian Assoc., California)
,
TSAI W
(Varian Assoc., California)
,
SALIMIAN S
(Varian Assoc., California)
,
FAVREAU D P
(AT&T Bell Lab., Pennsylvania)
,
MERCHANT S M
(AT&T Bell Lab., Pennsylvania)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 72 号： 8 ページ： 3718-3725 発行年： 1992年10月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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