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著者 (4件)：
資料名：
巻： 138 号： 6 ページ： 1778-1784 発行年： 1991年06月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902084960198914
整理番号：91A0607207
VLSI回路内部接続製作に対する化学的機械的研磨の応用
Application of Chemical Mechanical Polishing to the Fabrication of VLSI Circuit Interconnections.
PATRICK W J
(IBM General Technology Division, New York)
,
GUTHRIE W L
(IBM General Technology Division, New York)
,
STANDLEY C L
(IBM General Technology Division, New York)
,
SCHIABLE P M
(IBM General Technology Division, New York)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 138 号： 6 ページ： 1778-1784 発行年： 1991年06月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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