文献
J-GLOBAL ID:200902085398058264
整理番号:84A0246557
X線リソグラフィー用双格子整合法
A dual grating alignment technique for x-ray lithography.
著者 (3件):
KINOSHITA H
(Atsugi Electrical Communication Lab.)
,
UNE A
(Atsugi Electrical Communication Lab.)
,
IKI M
(Atsugi Electrical Communication Lab.)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
1
号:
4
ページ:
1276-1279
発行年:
1983年10月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)