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著者 (3件)：
資料名：
巻： 51 号： 16 ページ： 1285-1287 発行年： 1987年10月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902087558992344
整理番号：88A0098734
極めて短い(160fs)紫外(308nm)レーザパルスによるポリメタクリル酸メチルのアブレーション及びエッチング
Ablation and etching of polymethylmethacrylate by very short (160fs) ultraviolet (308nm) laser pulses.
SRINIVASAN R
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
SUTCLIFFE E
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
BRAREN B
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 51 号： 16 ページ： 1285-1287 発行年： 1987年10月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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