文献
J-GLOBAL ID:200902089871974945
整理番号:92A0363443
低線量酸素注入により形成した埋め込み酸化物層
Buried oxie layers formed by low-dose oxygen implantation.
著者 (2件):
NAKASHIMA S
(Nippon Telegraph and Telephone Corp., Atsugi-shi, JPN)
,
IZUMI K
(Nippon Telegraph and Telephone Corp., Atsugi-shi, JPN)
資料名:
Journal of Materials Research
(Journal of Materials Research)
巻:
7
号:
4
ページ:
788-790
発行年:
1992年04月
JST資料番号:
D0987B
ISSN:
0884-2914
CODEN:
JMREEE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)