文献
J-GLOBAL ID:200902092002488764
整理番号:88A0081956
多結晶薄膜のイオンビームスパッタリング形成における固有応力のスケーリング則
An intrinsic stress scaling law for polycrystalline thin films prepared by ion beam sputtering.
著者 (1件):
WINDISCHMANN H
(Standard Oil Co., OH, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
62
号:
5
ページ:
1800-1807
発行年:
1987年09月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)