文献
J-GLOBAL ID:200902092638621618
整理番号:89A0338978
回転円盤型化学蒸着リアクタ中の流体力学および気相化学の数学モデル
A mathematical model of the fluid mechanics and gas-phase chemistry in a rotating disk chemical vapor deposition reactor.
著者 (3件):
COLTRIN M E
(Sandia National Lab., NM, USA)
,
KEE R J
(Sandia National Lab., CA, USA)
,
EVANS G H
(Sandia National Lab., CA, USA)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
136
号:
3
ページ:
819-829
発行年:
1989年03月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)