文献
J-GLOBAL ID:200902093265479383
整理番号:87A0253387
高速度鋼基板にスパッタリングで付けた(Ti,Al)N膜の表面形態と諸性質に及ぼす蒸着温度とスパッタリングふん囲気の影響
Morphology and properties of sputtered (Ti,Al)N layers on high speed steel substrates as a function of deposition temperature and sputtering atmosphere.
著者 (4件):
JEHN H A
(Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
,
HOFMANN S
(Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
,
RUECKBORN V-E
(Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
,
MUENZ W-D
(Leybold-Heraeus GmbH, Hanau, DEU)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
4
号:
6
ページ:
2701-2705
発行年:
1986年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)