文献
J-GLOBAL ID:200902098786204820
整理番号:92A0558611
高硬度非晶質炭素薄膜における窒素混入による内部応力の減少
Internal stress reduction by nitrogen incorporation in hard amorphous carbon thin films.
著者 (3件):
FRANCESCHINI D F
(Univ. Federal do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
ACHETE C A
(Univ. Federal do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
FREIRE F L JR
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, Rio de Janeiro, BRA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
60
号:
26
ページ:
3229-3231
発行年:
1992年06月29日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)