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資料名：
巻： 58 号： 5 ページ： 463-465 発行年： 1991年02月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902099153619490
整理番号：91A0279664
シリコン上超高真空蒸着チタン薄膜の界面反応の最初の核形成相の確認
Identification of the first nucleated phase in the interfacial reactions of ultrahigh vacuum deposited titanium thin films on silicon.
WANG M H
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHEN L J
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 58 号： 5 ページ： 463-465 発行年： 1991年02月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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