文献
J-GLOBAL ID:200902100116600516
整理番号:99A0518516
反射高速電子回折による高温におけるZr-Si/W(100)表面についての研究
Study on Zr-Si/W(100) Surface at High Temperatures by Reflection High Energy Electron Diffraction.
著者 (4件):
KAWANO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MITSUHASHI R
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KIMURA Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SHIMIZU R
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
5A
ページ:
2951-2952
発行年:
1999年05月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)