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著者 (3件)：
資料名：
巻： 49 号： 3 ページ： 436-441 発行年： 2002年03月
JST資料番号： C0222A ISSN： 0018-9383 CODEN： IETDAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902100483027938
整理番号：02A0326545
ナノスケールCMOSのためのスペーサパターニング技術
A Spacer Patterning Technology for Nanoscale CMOS.
CHOI Y-K
(Univ. California, CA, USA)
,
KING T-J
(Univ. California, CA, USA)
,
HU C
(Univ. California, CA, USA)
資料名：
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻： 49 号： 3 ページ： 436-441 発行年： 2002年03月
JST資料番号： C0222A ISSN： 0018-9383 CODEN： IETDAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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