文献
J-GLOBAL ID:200902100989798738
整理番号:02A0634518
歪んだSi/SiGeによって構成されるnチャンネルMOSFET 素子の性能に対するクロスハッチングの効果
Strained Si/SiGe n-channel MOSFETs: Impact of cross-hatching on device performance.
著者 (8件):
OLSEN S H
(Univ. Newcastle, Newcastle upon Tyne, GBR)
,
O’NEILL A G
(Univ. Newcastle, Newcastle upon Tyne, GBR)
,
NORRIS D J
(Univ. Sheffield, Sheffield, GBR)
,
CULLIS A G
(Univ. Sheffield, Sheffield, GBR)
,
WOODS N J
(Imperial Coll. Sci., Technol. and Medicine, London, GBR)
,
ZHANG J
(Imperial Coll. Sci., Technol. and Medicine, London, GBR)
,
FOBELETS K
(Imperial Coll. Sci., Technol. and Medicine, London, GBR)
,
KEMHADJIAN H A
(Univ. Southampton, Southampton, GBR)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
17
号:
7
ページ:
655-661
発行年:
2002年07月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)