文献
J-GLOBAL ID:200902101402091420
整理番号:97A0194382
水収着能の高いArF表面改質レジストプロセス
ArF surface modification resist process with enhanced water sorption ability.
著者 (4件):
MATSUO T
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
ENDO M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
SHIRAI M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Univ. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
14
号:
6
ページ:
4212-4215
発行年:
1996年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)