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著者 (6件)：
資料名：
巻： 117/118 ページ： 312-316 発行年： 1997年06月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902102143421162
整理番号：97A0730370
W/WNx/Si系における超薄WSiN障壁層の形成機構
Formation mechanism of ultrathin WSiN barrier layer in a W/WNx/Si system.
NAKAJIMA K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
AKASAKA Y
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
MIYANO K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
TAKAHASHI M
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
SUEHIRO S
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
,
SUGURO K
(Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 117/118 ページ： 312-316 発行年： 1997年06月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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