文献
J-GLOBAL ID:200902103057501516
整理番号:94A0402675
高感光性けい素-酸素合金膜の構造
Structure of high-photosensitivity silicon-oxygen alloy films.
著者 (3件):
WATANABE H
(Sendai National Coll. Technology, Sendai, JPN)
,
HAGA K
(RICOH Research Inst. General Electronics, Natori, JPN)
,
LOHNER T
(Central Research Inst. Physics, Hungarian Academy of Sciences, Budapest, HUN)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
164/166
号:
Pt 2
ページ:
1085-1088
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)