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資料名：
巻： 76 号： 14 ページ： 1834-1835 発行年： 2000年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902103697492696
整理番号：00A0437136
引張機械応力に起因したシリコン酸化速度の増大
Enhancement of silicon oxidation rate due to tensile mechanical stress.
YEN J-Y
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
,
HWU J-G
(National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 76 号： 14 ページ： 1834-1835 発行年： 2000年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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