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著者 (9件)：
資料名：
巻： 67 号： 18 ページ： 2615-2617 発行年： 1995年10月30日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902104411806075
整理番号：95A1013387
高品質薄膜作製のためのサファイア基板上の超平滑表面の原子スケール形成
Atomic-scale formation of ultrasmooth surfaces on sapphire substrates for high-quality thin-film fabrication.
YOSHIMOTO M
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
MAEDA T
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
OHNISHI T
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
KOINUMA H
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
ISHIYAMA O
(Shimadzu Corp., Kyoto, JPN)
,
SHINOHARA M
(Shimadzu Corp., Kyoto, JPN)
,
KUBO M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MIURA R
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MIYAMOTO A
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 67 号： 18 ページ： 2615-2617 発行年： 1995年10月30日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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