文献
J-GLOBAL ID:200902105624321381
整理番号:01A0264704
インバータプラズマを用いた銅のイオン支援蒸着
Ion-assisted deposition of copper using an inverter plasma.
著者 (6件):
KIUCHI M
(Osaka National Res. Inst., Osaka, JPN)
,
MURAI K
(Osaka National Res. Inst., Osaka, JPN)
,
TANAKA K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAKECHI S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SUGIMOTO S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
GOTO S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
136
号:
1/3
ページ:
273-275
発行年:
2001年02月02日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)