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著者 (4件)：
資料名：
巻： 41 号： 1 ページ： 83-85 発行年： 2002年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902105790652248
整理番号：02A0191178
SrOバッファ層を使ってSi(001)上に二段階で成長させたBi2Sr2CuOx膜の安定性
Stability of Two-Step-Growth Bi2Sr2CuOx Films on Si(001) using SrO Buffer Layer.
TAMBO T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
SHIMIZU A
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
MATSUDA A
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
TATSUYAMA C
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41 号： 1 ページ： 83-85 発行年： 2002年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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