文献
J-GLOBAL ID:200902106372943844
整理番号:99A0052270
ほう素薄膜の内部応力制御
Internal stress control of boron thin film.
著者 (4件):
SATOMI N
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KITAMURA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SASAKI T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
NISHIKAWA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Fusion Engineering and Design
(Fusion Engineering and Design)
巻:
39/40
ページ:
493-497
発行年:
1998年09月
JST資料番号:
T0497A
ISSN:
0920-3796
CODEN:
FEDEEE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)