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著者 (2件)：
資料名：
巻： 149 号： 1 ページ： G21-G30 発行年： 2002年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902106770254854
整理番号：02A0182942
シリコン中の銅の物理学
Physics of Copper in Silicon.
ISTRATOV A A
(Univ. California, California, USA)
,
WEBER E R
(Univ. California, California, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 149 号： 1 ページ： G21-G30 発行年： 2002年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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