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文献
J-GLOBAL ID:200902106881201598   整理番号:97A0632263

193nmレジスト用脂環式メタクリレート重合体中の新しい保護基

New Protective Groups in Alicyclic Methacrylate Polymers for 193-nm Resists.
著者 (2件):
NOZAKI K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
YANO E
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻: 10  号:ページ: 545-550  発行年: 1997年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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