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文献
J-GLOBAL ID:200902107132942367   整理番号:98A0793833

GaN量子ディスクを製造するためのRF分子線エピタキシー法による(0001)Al2O3上のGaN/Al0.18Ga0.82N多層ナノカラムの自己組織化

Self-organization of GaN/Al0.18Ga0.82N multi-layer nano-columns on (0001) Al2O3 by RF molecular beam epitaxy for fabricating GaN quantum disks.
著者 (6件):
YOSHIZAWA M
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
KIKUCHI A
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
FUJITA N
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
KUSHI K
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
SASAMOTO H
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)
KISHINO K
(Sophia Univ., Tokyo, JPN)

資料名:
Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)

巻: 189/190  ページ: 138-141  発行年: 1998年06月 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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