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著者 (2件)：
資料名：
巻： 7 号： 1 ページ： 183-186 発行年： 1994年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902107892566039
整理番号：94A0598421
N-ヒドロキシフタルイミドスチレンスルホン酸エステル基含有化学増幅フォトレジストの調製及びそれらの性質
Preparation of chemically amplified photoresists with N-hydroxyphthalimide styrenesulfonate groups and their properties.
CHAE K H
(Chonnam National Univ., Kwangju, KOR)
,
OH Y J
(Chonnam National Univ., Kwangju, KOR)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7 号： 1 ページ： 183-186 発行年： 1994年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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