文献
J-GLOBAL ID:200902107902966766
整理番号:98A0198261
横方向にエピタキシャルに上層を成長させたGaN基板上に成長させた変調ドープ歪層を持つInGaN/GaN/AlGaN構造のレーザダイオード
InGaN/GaN/AlGaN-based laser diodes with modulation-doped strained-layer superlattices grown on an epitaxially laterally overgrown GaN substrate.
著者 (9件):
NAKAMURA S
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
SENOH M
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
NAGAHAMA S
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
IWASA N
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
YAMADA T
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
MATSUSHITA T
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
KIYOKU H
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
SUGIMOTO Y
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
,
CHOCHO K
(Nichia Chemical Ind. Ltd., Tokushima, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
72
号:
2
ページ:
211-213
発行年:
1998年01月12日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)