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著者 (5件)：
資料名：
巻： 40 号： 2B ページ： 1094-1096 発行年： 2001年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902108635075900
整理番号：01A0503829
60keVの高フラックス銅負イオン注入によって誘起されたX線発生
X-Ray Emission Induced by 60 keV High-Flux Copper Negative-Ion Implantation.
AMEKURA H
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
VOITSENYA V
(Inst. Plasma Physics, Kharkov, UKR)
,
LAY T T
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
TAKEDA Y
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
,
KISHIMOTO N
(National Res. Inst. Metals, Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40 号： 2B ページ： 1094-1096 発行年： 2001年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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