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著者 (4件)：
資料名：
巻： 83 号： 4 ページ： 2067-2071 発行年： 1998年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902109284335230
整理番号：98A0329791
マグネトロン同時スパタリングで作製した非晶質SiC:H膜の性質へのガリウムドーピングの効果
Effects of gallium doping on the properties of amorphous-SiC:H films prepared by magnetron cosputtering.
SAITO N
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN)
,
INUI Y
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
YAMAGUCHI T
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
NAKAAKI I
(Shizuoka Prefectural Fuji Industrial Res. Inst., Fuji, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 83 号： 4 ページ： 2067-2071 発行年： 1998年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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