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著者 (6件)：
資料名：
巻： 13 号： 3 ページ： 451-458 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902109946747452
整理番号：00A0692964
157nmリソグラフィー用ふっ素樹脂フォトレジストの基礎研究
Fundamental Studies of Fluoropolymer Photoresists for 157 nm Lithography.
SCHMALJOHANN D
(Cornell Univ., NY, USA)
,
BAE Y C
(Cornell Univ., NY, USA)
,
DAI J
(Cornell Univ., NY, USA)
,
WEIBEL G L
(Cornell Univ., NY, USA)
,
HAMAD A H
(Cornell Univ., NY, USA)
,
OBER C K
(Cornell Univ., NY, USA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 3 ページ： 451-458 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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