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J-GLOBAL ID：200902110093228474 整理番号：99A0190107

rfスパッタリングによるCu薄膜形成へのHeの効果

Effects of He on Cu film formation by rf sputtering.

著者 (3件)：

KOYANAGI T

(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)

TAKAO K

(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)

FUKUMA Y

(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)

資料名：

Vacuum (Vacuum)

巻： 51 号： 4 ページ： 575-582 発行年： 1998年12月
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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