文献
J-GLOBAL ID:200902110230017966
整理番号:97A0194244
InGaN,InN及びInAlN上のW,WSix及びTi/AlのOhm接触の熱安定性
Thermal stability of W, WSix, and Ti/Al ohmic contacts to InGaN, InN, and InAlN.
著者 (9件):
VARTULI C B
(Univ. Florida, Florida)
,
PEARTON S J
(Univ. Florida, Florida)
,
ABERNATHY C R
(Univ. Florida, Florida)
,
MACKENZIE J D
(Univ. Florida, Florida)
,
SHUL R J
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
ZOLPER J C
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
LOVEJOY M L
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
BACA A G
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
HAGEROTT-CRAWFORD M
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
14
号:
6
ページ:
3520-3522
発行年:
1996年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)